希尔半导体功率器件清洗剂是去除半导体表面的氧化皮、助焊剂、焊锡膏、金属离子以及光刻胶等污染物的水基清洗剂,其中的活性物质可以吸附在芯片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态,并在表面形成保护层,防止颗粒的二次吸附,清洗速度快,无残留,不会对铜、铝、镍、金、锡、硅及芯片PI层等产生腐蚀破坏。
应用领域:用于各种半导体(碳化硅、氮化镓)、IGBT模块、功率器件、芯片、电子元器件、铜排线和治具喷淋、超声波的清洗。
139-2572-1791
√ 清洗氧化物与焊锡膏效果好,洁净度高
√ 对工件表面无腐蚀,不变色,无斑白点
√ 原液浓度高,槽液寿命长,可循环使用
√ 低泡型,清洗效果好,无残留现象
√ 水基环保,无毒,无闪点,不燃不爆
√ 符合voc指标要求和欧盟RoHS认证
清洗速度快 不腐蚀 易漂洗 水基无味不伤材
外观 | 无色透明液体 | 密度 | 0.90-1.01g/L |
pH | 7.0-9.5(工作液) | 类型 | 水基型(VOC<100g/L) |
环保 | 无磷,不含卤素,符合欧盟RoHS要求 |
喷淋清洗/超声波清洗
原液使用,加热至50-70度,喷淋清洗5-10分钟,或超声波清洗1-5分钟。对于重污垢工件,延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
1、定期检查槽液温度、液位,及时补水及相应比例补加原液。
2、按规定时间定期更换槽液。
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