希尔硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂,清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态,并在表面形成保护层,防止颗粒的二次吸附,能有效提高外延或扩散工序的成品率,主要是应用于各种硅片切割与抛光后的清洗。
应用领域:用于光伏与半导体硅片、晶圆、元器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
139-2572-1791
√ 清洗硅粉与颗粒物效果好,洁净度高
√ 对工件表面无腐蚀,不变色,无斑白点
√ 原液浓度高,槽液寿命长,可循环使用
√ 清洗效果好,无残留,不影响导电性能
√ 水基环保,无毒,无闪点,不燃不爆
√ 符合voc指标要求和欧盟RoHS认证
清洗除油快 不腐蚀 易漂洗 环保无味不伤手
外观 | 无色至微黄色液体 | 密度 | 1.00-1.01g/L |
pH | 7-9(工作液) | 安全 | 不可燃,无腐蚀 |
环保 | 无磷,不含卤素,符合欧盟RoHS要求 |
恒温浸泡清洗/超声波清洗/平面线清洗
按比例稀释成工作液后,加热至50-60度,恒温浸泡5-10分钟,或超声波清洗2-3分钟。对于重污垢工件,延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
1、定期检查槽液温度、液位,及时补水及相应比例补加原液。
2、按规定时间定期更换槽液。
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