pvd镀膜技术是在真空条件下，采用低电压的电弧放电技术，通过气体放电蒸发靶材，将物质沉积在基材上，提高产品的外观效果和装饰性能，从而得到不同的颜色外观。由于使用pvd真空镀后，镀膜层的附着力增强，在产生不良品后，需要PVD退镀液将PVD涂层从被镀基体上除去。

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～ 5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度更小 ，因此对退镀技术以及设备提出了苛刻的要求：既要退除镀层，又要不伤害到工件。随着电子零配件集成化的要求，很多产品是不锈钢、光学玻璃、陶瓷蓝宝石等，这些工件的PVD膜层的退除相对单一底材，其退除难度更大。

PVD退镀液在退镀作业当中与膜层的反应时间十分短,在进行膜层剥离过程当中速度很快，能够快速的去除物体表面的镀层。退镀过程中基本不会产生残留，对退镀基材也不会有损伤。

PVD退镀液是一种碱性的PVD膜层剥离剂，可快速脱除光学玻璃、陶瓷、蓝宝石以及不锈钢表面上的金属膜，氧化物膜，氮化物膜和碳化物膜等真空镀层，水基环保，退镀效果高，不伤基材，适用于镀膜之不良品的返修工序。

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