硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面洁净如一，特别适用于太阳能硅片清洗，有利于硅片制绒，提高电池片的转化效率国内硅片清洗剂主要有三种，分别是单组份清洗剂，双组份清洗剂，多组分清洗剂。

硅片清洗剂的主要特性：

1、对硅片切割液、研磨液等具有较好乳化、分散及清洁作用且使用寿命长，易于清洗漂洗

2、对工件表面无腐蚀，不变色，无斑白点

3、加温使用，浓度高、成本低、速度快，效果好

4、清洗性能好，清洗后的硅片表面无残留，硅片制绒及光电性能好

5、配合超声波，清洗硅粉与颗粒物效果好，洁净度高

6、本产品无磷，易于生物降解，环保性能好

在硅片清洗中为避免离子沾污通常使用非离子型表面活性剂在切片过程中，切屑、油污、金属原子等易粘附在Si片表面,清洗液中的表面活性剂一方面能吸附各种粒子、有机分子，并在Si表面形成一层吸附膜，阻止粒子和有机分子污粘附在Si表面上，另一方面可渗入到粒子和油污粘附的界面上，把粒子和油污从界面分离随清洗液带走,起到清洗作用使Si片表面洁净。

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