硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理，能有效将嵌入在硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物去除，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，使硅片表面洁净如一，能有效提高外延或扩散工序的成品率，主要是应用于各种硅片线切割与抛光后的硅粉、残胶，氧化物和油污清洗。

硅片清洗剂产品的优点

1.对硅片切割液、研磨液等具有较好乳化、分散及清洁作用，且使用寿命长，易清洗漂洗。

2.硅片表面不易产生过腐蚀，表面无花斑白点。

3.中温使用，浓度高、成本低、速度快，效果好。

4.清洗性能好，无残留，导电性能好。

5.配合超声波，清洗效果更佳。

希尔硅片清洗剂是一款由多种表面活性剂、助剂复配而成浓缩型水基清洗剂，具有优秀的润湿、渗透、络合能力，用于各种硅片、元器件、半导体、晶圆和晶片等表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。

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